株式会社 トリケミカル研究所 (4369) 日本基準 Yahoo!ファイナンス↗

業種: 化学
半導体AI電子材料半導体製造装置
財務プロファイル(全4163社中の相対位置)
A
収益性
業種 6/215位
B
安定性
業種 71/215位
B
成長性
業種 44/214位
C
効率性
業種 58/215位
E
CF健全性
業種 210/215位
売上高
239億円
粗利率
37.8%
営業利益率
24.7%
純利益率
23.1%
ROE
15.3%
ROIC
10.3%
自己資本比率
76.5%
D/Eレシオ
0.11
有利子負債
41億円
ネットキャッシュ
32億円
NC/時価総額
2.9%
運転資本余剰*
-3億円
運転資本余剰/時価総額*
-0.3%
フリーCF
-33億円
FCFマージン
-13.7%
キャッシュ化率
0.69倍
PBR
2.96倍
EV/EBITDA
13.3倍
PER
19.4倍
想定株価
3292.6円
想定時価総額
1070億円

想定株価・想定時価総額は有報記載のPERとEPSから算出した参考値です(リアルタイム株価ではありません)

年度別損益

決算期売上高売上総利益減価償却費営業利益EBITDA経常利益純利益
2026年1月期 239億円 90億円 19億円 59億円 78億円 71億円 55億円
2025年1月期 189億円 80億円 14億円 53億円 66億円 66億円 50億円
2024年1月期 112億円 41億円 13億円 19億円 33億円 33億円 25億円

年度別BS(構造)

決算期総資産流動資産流動負債固定負債自己資本
2026年1月期 473億円 233億円 76億円 35億円 361億円
2025年1月期 369億円 215億円 42億円 12億円 316億円
2024年1月期 319億円 190億円 26億円 17億円 276億円

年度別BS(主要内訳)

決算期現金棚卸資産売上債権有利子負債投資有価証券のれん運転資本余剰
2026年1月期 73億円 79億円 44億円 41億円 61億円 - -3億円
2025年1月期 94億円 60億円 36億円 18億円 39億円 - 53億円
2024年1月期 105億円 40億円 27億円 24億円 30億円 - 79億円

運転資本余剰 = 現金 − 流動負債(独自定義・金融業は対象外)用語集↗

年度別CF

決算期営業CF投資CF財務CFフリーCF
2026年1月期 38億円 -71億円 11億円 -33億円
2025年1月期 37億円 -31億円 -16億円 6億円
2024年1月期 30億円 -18億円 -19億円 12億円

年度別1株データ

想定株価・想定時価総額は有報記載のPERとEPSから算出した参考値です(リアルタイム株価ではありません)

決算期EPSBPS1株配当配当性向1株NCPER想定株価想定時価総額発行済株式自己株式
2026年1月期 169.7円 1112.4円 35.0円 20.6% 97.0円 19.4倍 3292.6円 1070億円 32,498,640株 1,800株
2025年1月期 152.7円 972.0円 35.0円 22.9% 235.8円 21.4倍 3267.6円 1062億円 32,498,640株 1,800株
2024年1月期 76.0円 848.4円 30.0円 39.5% 249.2円 48.5倍 3687.4円 1198億円 32,498,640株 1,700株

年度別指標

決算期ROEROAROIC粗利率営業利益率EBITDAマージン純利益率FCFマージン自己資本比率D/Eレシオ
2026年1月期 15.3% 11.7% 10.3% 37.8% 24.7% 32.7% 23.1% -13.7% 76.5% 0.11
2025年1月期 15.7% 13.4% 11.0% 42.4% 27.8% 35.1% 26.3% 3.0% 85.5% 0.06
2024年1月期 9.0% 7.8% 4.5% 36.3% 17.3% 28.9% 22.0% 10.6% 86.5% 0.09

年度別成長率

決算期売上高営業利益純利益売上CAGR(3年)売上CAGR(5年)営業利益CAGR(3年)代表者
2026年1月期 26.3% 12.3% 11.2% 20.1% 19.5% 19.0% -
2025年1月期 68.1% 169.8% 100.8% 17.8% 18.0% 20.9% 代表取締役社長執行役員 太 附 聖
2024年1月期 -18.5% -44.4% -48.9% 4.7% 7.6% -10.2% 代表取締役社長執行役員 太 附 聖

業種比較(化学、214社中央値)

指標株式会社 トリケミカル研究所業種中央値
ROE15.3%6.4%
ROA11.7%3.9%
営業利益率24.7%7.3%
純利益率23.1%5.2%
自己資本比率76.5%64.2%
売上成長率26.3%2.1%
PER19.4倍13.1倍
PBR2.96倍0.85倍
EV/EBITDA13.3倍6.2倍
NC/時価総額2.9%4.9%
運転資本余剰/時価総額-0.3%-9.8%
同業他社: 三菱ケミカルグループ株式会社(4188)富士フイルムホールディングス株式会社(4901)旭化成株式会社(3407)信越化学工業株式会社(4063)住友化学株式会社(4005)全215社 →
この銘柄と同業他社3社を比較 →

同業種の企業

化学で事業規模(想定時価総額)が近い企業
社名想定時価総額売上高
石原産業株式会社 (4028) 1077億円 1549億円
アース製薬株式会社 (4985) 1085億円 1792億円
旭有機材株式会社 (4216) 1053億円 801億円
三洋化成工業株式会社 (4471) 1107億円 1279億円
タカラバイオ株式会社 (4974) 997億円 450億円
セントラル硝子株式会社 (4044) 996億円 1445億円
高砂香料工業株式会社 (4914) 1156億円 2251億円
東洋紡株式会社 (3101) 1162億円 4216億円
化学の企業一覧(全215社)→

AI分析(2026年1月期)

半導体AI電子材料
半導体製造用高純度化学化合物CVD材料ドライエッチング材料AI需要南アルプス事業所

見通し: 半導体市場の拡大とAI需要を追い風に、売上高は26.3%増と好調。中期経営計画では2029年1月期に売上高317億円、営業利益86.5億円(売上高営業利益率25%)を目指しており、持続的な成長が見込まれる。

強み: 最先端半導体向け高純度化学材料で技術的優位性を保持。ニッチ市場で競合が少なく、参入障壁が高い。

懸念: 半導体業界及び特定製品(高誘電率絶縁膜材料)への依存度が高い。市場変動や技術革新への対応が課題。

リスク: 半導体業界の市況変動や技術革新への追随遅延リスク。高誘電率絶縁膜材料への依存度が高いため、当該分野の需要減は業績に影響。原材料市況変動による調達難や価格転嫁の遅延も懸念される。

AI詳細分析(2026年1月期)

事業概要

本稿で分析する企業は、主に半導体製造用高純度化学化合物の開発、製造、販売を手掛けている。設立以来、光ファイバー製造用材料で成長を遂げ、現在は半導体製造、太陽電池製造用材料の供給へと事業を拡大している。事業は単一セグメントであり、CVD材料、ドライエッチング材料、拡散材料といった製品群に加え、化学薬品用容器の設計販売、受託合成、受託実験といった付帯業務も提供することで、顧客ニーズにきめ細かく対応し、高付加価値化を図っている。具体的には、シリコンウェハ上に微細な電子回路を形成する半導体製造プロセスにおいて、CVD(化学気相成長)、エッチング、拡散といった多岐にわたる工程で同社の高純度化学化合物が利用されている。半導体デバイスの微細化や技術革新に伴い、材料の要求仕様も常に変化するため、材料工学・応用化学の観点から新しい材料の開発・提案を継続的に行っている点が特徴である。海外展開も積極的に行っており、台湾、韓国、中国に子会社や合弁会社を設立し、グローバルな供給体制を構築している。

直近決算ハイライト

当連結会計年度において、売上高は238億8317万円と、前年同期比で26.3%増加した。これは、生成AI普及に伴うデータセンター投資拡大や先端ロジック・メモリ向け投資意欲の堅調さに支えられ、半導体業界の活況を背景に化学材料の出荷が増加したことが主な要因である。営業利益は59億222万円で、同12.3%増となった。売上総利益率は37.8%であり、前年度の42.4%から低下したが、これは減価償却費の増加に伴う製造経費の増加が影響している。販売費及び一般管理費は13.1%増加し31億1678万円となった。経常利益は70億9021万円(同7.7%増)、親会社株主に帰属する当期純利益は55億1524万円(同11.1%増)となった。これは、韓国関係会社SK Tri Chem Co., Ltd.における持分法による投資利益の計上が寄与した。キャッシュ・フローにおいては、営業活動によるキャッシュ・フローは37億9516万円の収入となり、前年同期比で増加した。一方、投資活動によるキャッシュ・フローは70億5414万円の支出、財務活動によるキャッシュ・フローは10億8829万円の収入となった。全体として、売上高は大きく伸長したものの、利益率には一部改善の余地が見られる。

強みと競争優位性

同社の競争優位性は、半導体製造に不可欠な最先端・高純度化学材料の開発・製造・販売における技術力とノウハウの蓄積にある。特に、CVD工程やエッチング工程で用いられる特殊な化学材料分野において、ニッチな市場でありながらも高い技術的優位性を保持している。半導体デバイスの微細化や高性能化に伴い、材料に対する要求は高度化・多様化しており、顧客の要求に応じた新材料の開発・提案能力が、参入障壁として機能している。また、創業以来培ってきた高純度化技術や安定生産ノウハウは、他社が容易に模倣できない強みとなっている。創業当初から光ファイバー用材料で培った高純度化技術が、半導体分野でも活かされており、顧客からの信頼も厚い。さらに、ISO9001に基づく品質管理体制の構築や、ISO14001による環境保全活動への取り組みは、顧客からの信用を高め、安定した事業継続を支える基盤となっている。主要顧客である大手半導体メーカーとの長期的な取引関係も、安定した収益基盤を支える要因となっている。

リスク要因

同社の事業は、特定の業界、特に半導体業界の動向に大きく依存している点が第一のリスク要因である。半導体市場の市況変動や技術革新のスピードに追随できない場合、業績に影響を与える可能性がある。また、売上高の多くを占める高誘電率絶縁膜材料など、特定の製品への依存度が高いこともリスクとなり得る。競合他社の参入による競争激化や、原材料の市況変動、調達難も業績に影響を及ぼす要因となる。為替変動リスクも無視できない。売上高の約8割が海外向けであり、外貨建取引が多いため、為替レートの変動は収益に影響を与える。品質管理体制には万全を期しているものの、万が一、甚大なクレームや製造物責任につながる事態が発生した場合、ブランドイメージや財政状態に悪影響を及ぼす可能性がある。さらに、優秀な人材の確保・維持は、継続的な研究開発を行う上で不可欠であり、人材流出は事業継続の妨げとなる。顧客情報の漏洩や技術ノウハウの流出も、信用の失墜や損害賠償請求につながるリスクがある。仕入先への依存度が高い点も懸念材料であり、特に特殊仕様の容器や有機リチウム化合物の主要仕入先との関係悪化は、生産活動に支障をきたす可能性がある。カントリーリスクや災害リスクも潜在的な脅威として存在する。

投資テーマとの関連

同社は、生成AIやデータセンター投資の拡大といった半導体需要の増加を追い風に事業を展開しており、AI・半導体関連の投資テーマと直接的な関連性が高い。半導体製造プロセスに不可欠な高純度化学材料は、半導体デバイスの性能向上や微細化に直結するため、AI・半導体産業の成長を支える基盤技術の一部を担っていると言える。特に、先端ロジック・メモリ向けといった成長分野への材料供給は、今後のAI技術の発展を側面から支援する役割を持つ。また、技術革新のスピードが速い半導体業界において、常に新しい材料の開発・提案を行う同社の能力は、将来的な技術トレンドへの適応力という観点からも注目に値する。持続的な成長が見込まれる半導体市場において、同社は、その高度な技術力とニッチ市場における競争優位性を武器に、今後もAI・半導体産業の発展に貢献していくことが期待される。中国市場における事業拡大も、グローバルな半導体サプライチェーンにおける同社の重要性を示唆している。

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